動(dòng)態(tài)

• 發(fā)布了文章 2025-08-19 10:31

  澤攸科技 | 臺(tái)階儀：微觀形貌的精密解析工具 —— 原理、技術(shù)與產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用

  

  在精密制造與前沿科研領(lǐng)域，微觀表面形貌的量化表征是保障產(chǎn)品性能與推動(dòng)技術(shù)創(chuàng)新的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。臺(tái)階儀作為一種高精度表面測(cè)量?jī)x器，通過(guò)對(duì)樣品表面高度差、粗糙度及薄膜厚度等參數(shù)的精確獲取，為半導(dǎo)體、納米材料、光學(xué)工程等領(lǐng)域提供了不可或缺的技術(shù)支撐。

  測(cè)量?jī)x 測(cè)量設(shè)備 精密測(cè)量

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• 發(fā)布了產(chǎn)品 2025-08-15 15:14

  電子束光刻機(jī)

  

  產(chǎn)品型號(hào)：ZEL304G 標(biāo)配：激光干涉樣品臺(tái) 樣品臺(tái)行程：≤105 mm 圖像分辨率：≤1nm @ 15 kV；≤1.5 nm @ 1kV

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• 發(fā)布了產(chǎn)品 2025-08-15 15:11

  DMD無(wú)掩膜光刻機(jī)

  

  產(chǎn)品型號(hào)：ZML 紫外光源中心波長(zhǎng)：405 nm 曝光均勻度：90%以上 最小特征線寬：0.5um

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• 發(fā)布了產(chǎn)品 2025-08-15 15:09

  全自動(dòng)臺(tái)階儀JS2000C/3000C

  

  產(chǎn)品型號(hào)：JS2000C/3000C 臺(tái)階高度最大范圍：160um 臺(tái)階高度重復(fù)性：≤0.5nm 探針加力范圍：0.5mg~50mg

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• 發(fā)布了產(chǎn)品 2025-08-15 15:07

  半自動(dòng)臺(tái)階儀JS100C/200C/300C

  

  產(chǎn)品型號(hào)：JS100C/200C/300C 樣品尺寸：6寸（JS100C）/ 8寸（JS200C）/ 12寸（JS 重復(fù)性測(cè)量偏差：≤0.5nm(1o lum標(biāo)準(zhǔn)塊重復(fù)掃描30次) 注釋：詳情咨詢澤攸科技

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• 發(fā)布了產(chǎn)品 2025-08-15 15:05

  手動(dòng)臺(tái)階儀JS10C

  

  產(chǎn)品型號(hào)：JS10C 型號(hào)：JS10C

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• 發(fā)布了產(chǎn)品 2025-08-15 15:02

  ZEM Pro單晶燈絲臺(tái)式掃描電鏡

  

  產(chǎn)品型號(hào)：ZEM Pro 分辨率：優(yōu)于3nm 放大倍數(shù)：360000

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• 發(fā)布了產(chǎn)品 2025-08-15 11:46

  ZEM20臺(tái)式掃描電鏡

  

  產(chǎn)品型號(hào)：ZEM20 分辨率：優(yōu)于4nm 放大倍數(shù)：360000

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• 發(fā)布了產(chǎn)品 2025-08-15 11:38

  ZEM Ultra場(chǎng)發(fā)射臺(tái)式掃描電鏡

  

  產(chǎn)品型號(hào)：ZEM Ultra 分辨率：優(yōu)于2.5nm 放大倍數(shù)：100萬(wàn)倍

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• 發(fā)布了文章 2025-08-14 10:07

  澤攸科技 | 電子束光刻（EBL）技術(shù)介紹

  

  電子束光刻（EBL）是一種無(wú)需掩模的直接寫入式光刻技術(shù)，其工作原理是通過(guò)聚焦電子束在電子敏感光刻膠表面進(jìn)行納米級(jí)圖案直寫。

  光刻機(jī) 電子束

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