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金剛砂又名碳化硅(SiC)是用石英砂、石油焦(或煤焦)、木屑(生產(chǎn)綠色碳化硅時需要加食鹽)等原料通過電阻爐高溫冶煉而成。
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不同的熱膨脹系數(shù) (CTE) 會產(chǎn)生應(yīng)力并導(dǎo)致故障。嵌入到 AlN(周圍有銅層)等陶瓷基板上可以提供與SiC更好的 CTE 匹配,同時還可以創(chuàng)建所需的隔...
在電力電子領(lǐng)域,碳化硅(SiC)技術(shù)對于推動向電動移動性的轉(zhuǎn)變和提高可再生能源系統(tǒng)的效率至關(guān)重要。隨著市場需求的增加,功率半導(dǎo)體公司面臨著迅速擴(kuò)大生產(chǎn)能...
搭載了SiC-MOSFET/SiC-SBD的全SiC功率模塊介紹
ROHM在全球率先實現(xiàn)了搭載ROHM生產(chǎn)的SiC-MOSFET和SiC-SBD的“全SiC”功率模塊量產(chǎn)。與以往的Si-IGBT功率模塊相比,“全SiC...
碳化硅(SiC)功率器件的優(yōu)勢和應(yīng)用領(lǐng)域
隨著科技的不斷進(jìn)步,電力電子設(shè)備在我們的日常生活和工業(yè)生產(chǎn)中發(fā)揮著越來越重要的作用。然而,隨著電力電子設(shè)備向著更高效、更小型化以及更可靠的方向發(fā)展,傳統(tǒng)...
SiC MOSFET:通過波形的線性近似分割來計算損耗的方法
首先,計算開通和關(guān)斷時間內(nèi)消耗的功率損耗Pton和Ptoff。波形使用圖1中的示例波形。功率損耗使用表1中的近似公式來計算。由于計算公式會因波形的形狀而...
歷經(jīng)Formula E三季的磨礪,羅姆SiC功率元器件與文圖瑞車隊一同走過了怎樣的歷程?在香港站文圖瑞車隊勇奪冠軍,這背后離不開技術(shù)人員的默默付出。
動態(tài)測試確認(rèn)SiC開關(guān)頻率的準(zhǔn)確性
碳化硅 (SiC) 和氮化鎵 (GaN)等寬帶隙材料由于其電氣特性已被證明優(yōu)于硅,因此在電力電子應(yīng)用中占據(jù)領(lǐng)先地位。盡管被廣泛接受,專家們?nèi)圆粩鄼z查其真實性。
硅片在大口徑化的同時,要求規(guī)格的嚴(yán)格化迅速發(fā)展。特別是由于平坦度要求變得極其嚴(yán)格,因此超精密磨削技術(shù)得以開發(fā),實現(xiàn)了無蝕刻化,無拋光化。雖然在單晶SiC...
碳化硅MOSFET在新能源行業(yè)有怎樣的應(yīng)用和發(fā)展
在碳化硅電力電子器件的研究中,SiC-MOSFET是最受關(guān)注的器件。在Si材料接近理論性能極限的今天,SiC功率器件由于具有耐壓高、損耗低、效率高等特點...
SiC(碳化硅)是一種由硅(Si)和碳(C)組成的化合物半導(dǎo)體材料。表1-1顯示了每種半導(dǎo)體材料的電氣特性。SiC具有優(yōu)異的介電擊穿場強(qiáng)(擊穿場)和帶隙...
SiC MOSFET柵極驅(qū)動電路的優(yōu)化方案
在高壓開關(guān)電源應(yīng)用中,相較傳統(tǒng)的硅MOSFET和IGBT,碳化硅(以下簡稱“SiC”)MOSFET有明顯的優(yōu)勢。使用硅MOSFET可以實現(xiàn)高頻(數(shù)百千赫...
2023-08-03 標(biāo)簽:MOSFET開關(guān)電源驅(qū)動電路 2.4k 0
使用寬帶隙半導(dǎo)體的技術(shù)可以滿足當(dāng)今行業(yè)所需的所有需求。顧名思義,它們具有更大的帶隙,因此各種電子設(shè)備可以在高電壓、高溫和高頻率下工作。碳化硅 (SiC)...
SiC MOSFET模塊串?dāng)_應(yīng)用對策
SiC MOSFET模塊目前廣泛運(yùn)用于新能源汽車逆變器、車載充電、光伏、風(fēng)電、智能電網(wǎng)等領(lǐng)域[2-9] ,展示了新技術(shù)的優(yōu)良特性。
2024-02-19 標(biāo)簽:MOSFET數(shù)字示波器SiC 2.4k 0
功率GaN出現(xiàn)爆炸式增長 基于GaN的RF器件獨特優(yōu)勢眾多
Qorvo這種新型高功率放大器MMIC是專為“商業(yè)和軍事雷達(dá),以及電子戰(zhàn)應(yīng)用”而設(shè)計。
半導(dǎo)體工藝與制造裝備技術(shù)發(fā)展趨勢
摘 要:針對半導(dǎo)體工藝與制造裝備的發(fā)展趨勢進(jìn)行了綜述和展望。首先從支撐電子信息技術(shù)發(fā)展的角度,分析半導(dǎo)體工藝與制造裝備的總體發(fā)展趨勢,重點介紹集成電路...
國產(chǎn)CVD設(shè)備在4H-SiC襯底上的同質(zhì)外延實驗
SiC薄膜生長方法有多種,其中化學(xué)氣相沉積(chemical vapor deposition, CVD)法具有可以精確控制外延膜厚度和摻雜濃度、缺陷較...
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