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離子源

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離子源技術(shù)

詳細聚焦離子束（FIB）技術(shù)

聚焦離子束（FocusedIonBeam，F(xiàn)IB）技術(shù)，堪稱微觀世界的納米“雕刻師”，憑借其高度集中的離子束，在納米尺度上施展著加工、分析與成像的精湛技...

2025-02-18 標簽：fib 離子源離子束 2.4k 0

聚焦離子束技術(shù)中液態(tài)鎵作為離子源的優(yōu)勢

聚焦離子束（FIB）在芯片制造中的應用聚焦離子束（FIB）技術(shù)在半導體芯片制造領(lǐng)域扮演著至關(guān)重要的角色。它不僅能夠進行精細的結(jié)構(gòu)切割和線路修改，還能用于...

2025-01-10 標簽：芯片制造 fib 離子源 910 0

光學鍍膜是如何工作的？

上海伯東提供適用于光學鍍膜機的離子源和真空系統(tǒng) 光的干涉在薄膜光學中應用廣泛. 光學薄膜技術(shù)的普遍方法是借助真空濺射的方式在玻璃基板上涂鍍薄膜. 光學鍍...

2023-09-08 標簽：薄膜光學離子源 2.1k 0

KRi 離子源 e-beam 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)輔助鍍膜應用

上海伯東美國 KRi 考夫曼離子源 KDC 系列, 通過加熱燈絲產(chǎn)生電子, 是典型的考夫曼型離子源, 離子源增強設計輸出低電流高能量寬束型離子束, 通過...

2023-05-25 標簽：電子離子源考夫曼離子源 1.7k 0

KRi 射頻離子源 IBSD 離子束濺射沉積應用

上海伯東美國 KRi 考夫曼品牌 RF 射頻離子源, 無需燈絲提供高能量, 低濃度的寬束離子束, 離子束轟擊濺射目標, 濺射的原子(分子)沉積在襯底上形...

2023-05-25 標簽：射頻離子源 1.7k 0

KRi 考夫曼離子源表面預清潔 Pre-clean 應用

上海伯東代理美國 KRi 考夫曼離子源適用于安裝在 MBE 分子束外延, 濺射和蒸發(fā)系統(tǒng), PLD 脈沖激光系統(tǒng)等, 在沉積前用離子轟擊表面, 進行預清...

2023-05-25 標簽：硅片離子源預清潔 1.4k 0

美國 KRi 大尺寸射頻離子源樹脂鏡片高性能 AR 工藝

上海伯東美國 KRi 大尺寸射頻離子源 RFICP 380, 利用高均勻性的離子分布及高穩(wěn)定的離子能量成功搭配于 1米7 的大型蒸鍍設備, 解決了在樹脂...

2023-05-24 標簽：Ar 離子源射頻離子源 1.7k 0

KRi 射頻離子源應用于車載鏡片鍍膜工藝,實現(xiàn)車載鏡頭減反, 塑膠鏡片增透

在車載攝像頭鏡片加工鍍膜環(huán)節(jié), 鍍膜機通過加裝上海伯東美國 KRi 射頻離子源對于加強膜層致密性, 實現(xiàn)車載鏡頭減反, 塑膠鏡片增透, 明顯提升工藝效果.

2023-05-11 標簽：射頻離子源真空鍍膜離子源 1.5k 0

美國 KRi 霍爾離子源輔助鍍膜 IBAD 應用

上海伯東美國 KRi 霍爾離子源 EH 系列, 提供高電流低能量寬束型離子束, KRi 霍爾離子源可以以納米精度來處理薄膜及表面, 多種型號滿足科研及工...

2023-05-11 標簽：電流離子源霍爾離子源 1.5k 0

濱松推廣離子源、探測器等新品，進入質(zhì)譜領(lǐng)域

2017-10-17 標簽：探測器離子源濱松 6k 0

離子源帖子

離子源資料下載

離子源分布式控制系統(tǒng)設計立即下載

類別：網(wǎng)絡協(xié)議論文 2009-06-16 標簽：離子源 803 0

離子源資訊

KRi考夫曼離子源適用于各類真空設備

上海伯東美國 KRi 考夫曼離子源適用于各類真空設備, 實現(xiàn)離子清洗 PC, 離子刻蝕 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 和離子束...

2025-02-20 標簽：真空離子源電子束 872 0

為什么要用液態(tài)鎵作為FIB的離子源

? 本文介紹了為什么要用液態(tài)鎵作為FIB的離子源以及鎵離子束是如何產(chǎn)生的。什么是FIB？ FIB，全名Focused Ion Beam，聚焦離子束，在...

2024-12-17 標簽：fib 離子源 1.2k 0

美國KRi 離子源光通信應用, 助力5G技術(shù)發(fā)展

光通信的信息載體是光波,?為了進一步提高光通信系統(tǒng)中光信號的傳輸質(zhì)量,?滿足光通信系統(tǒng)的使用要求,??上海伯東美國 KRi 離子源通過離子束濺射, 輔助...

2023-08-07 標簽：通信光纖器光通訊 1.2k 0

美國 KRi 考夫曼離子源應用于雙腔室高真空等離子 ALD 系統(tǒng)

上海伯東美國 KRi 考夫曼離子源 KDC 40 應用于雙腔室高真空等離子 ALD 系統(tǒng), 實現(xiàn)小規(guī)模試驗中 2-4 英寸硅片等半導體襯底表面的清潔, ...

2023-07-07 標簽：離子源系統(tǒng) 1.3k 0

KRi 射頻離子源應用于國產(chǎn)離子束濺射鍍膜機 IBSD

上海伯東客戶某高校使用國產(chǎn)品牌離子束濺射鍍膜機用于金屬薄膜制備, 工藝過程中, 國產(chǎn)離子源鎢絲僅使用 18個小時就會燒斷, 必須中斷鍍膜工藝更換鎢絲, ...

2023-05-25 標簽：射頻工藝離子源 2.7k 0

上海伯東大口徑射頻離子源成功應用于12英寸IBE 離子束蝕刻機

上海伯東美國?KRi?考夫曼公司大口徑射頻離子源?RFICP 380, RFICP 220 成功應用于 12英寸和 8英寸?IBE 離子束蝕刻機, 實現(xiàn)...

2023-06-15 標簽：射頻離子源蝕刻機 1.8k 0

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加速度傳感器是一種能夠測量加速度的傳感器。通常由質(zhì)量塊、阻尼器、彈性元件、敏感元件和適調(diào)電路等部分組成。
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OBD是英文On-Board Diagnostic的縮寫，中文翻譯為“車載診斷系統(tǒng)”。這個系統(tǒng)隨時監(jiān)控發(fā)動機的運行狀況和尾氣后處理系統(tǒng)的工作狀態(tài)，一旦發(fā)現(xiàn)有可能引起排放超標的情況，會馬上發(fā)出警示。
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盡管最初傅里葉分析是作為熱過程的解析分析的工具，但是其思想方法仍然具有典型的還原論和分析主義的特征?！叭我狻钡暮瘮?shù)通過一定的分解，都能夠表示為正弦函數(shù)的線性組合的形式，而正弦函數(shù)在物理上是被充分研究而相對簡單的函數(shù)類，這一想法跟化學上的原子論想法何其相似！
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ov7620是一款CMOS攝像頭器件，是彩色CMOS型圖像采集集成芯片，提供高性能的單一小體積封裝，該器件分辨率可以達到640X480，傳輸速率可以達到30幀。
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HCS12X系列單片機簡介 Freescale 公司的16位單片機主要分為HC12 、HCS12、HCS12X三個系列。HC12核心是16位高速CPU12核，總線速度8MHZ；HCS12系列單片機以速度更快的CPU12內(nèi)核為核心，簡稱S12系列，典型的S12總線速度可以達到25MHZ。
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干擾器有多種類型，如GPS干擾器是適用于長途客車司機以及一些不想被GPS信號追蹤到的人群的一個機器，手機信號干擾器主要針對各類考場、學校、加油站、教堂、法庭、圖書館、會議中心（室）、影劇院、醫(yī)院、政府、金融、監(jiān)獄、公安、軍事重地等禁止使用手機的場所。
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采用彈性敏感元件制成懸臂式位移器，與采用彈性敏感元件制成的儲能彈簧來驅(qū)動電觸點，完成從重力變化到電信號的轉(zhuǎn)換，廣泛應用在中高端智能手機和平板電腦內(nèi)。
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無刷直流電機由電動機主體和驅(qū)動器組成，是一種典型的機電一體化產(chǎn)品。無刷電機是指無電刷和換向器（或集電環(huán)）的電機，又稱無換向器電機。早在十九紀誕生電機的時候，產(chǎn)生的實用性電機就是無刷形式，即交流鼠籠式異步電動機，這種電動機得到了廣泛的應用。
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凡是電流方向不隨時間變化的電流稱為直流電壓。電流值可以全為正值，也可以全為負值。在直流電流中又可分為兩種：穩(wěn)恒直流和脈動直流。直流輸電技術(shù)已經(jīng)由簡單的端對端工程朝著大規(guī)模多端輸電的方向發(fā)展，這些工程將是未來直流電網(wǎng)的組成部分，將相同電壓等級的直流工程連接成網(wǎng)遠比不同電壓等級下的獨立工程更經(jīng)濟、便捷。
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buck是降壓型電路，boost是升壓型電路，可以分開單獨使用，buck-boost電路就是把2種電路合在一起，可升可降。buck-boost拓撲電路可以實現(xiàn)升降壓功能，常見的buck-boost電路有兩種，第一種是輸入與輸出電壓極性相反，只需采用一個開關(guān)管和二極管。另外一種是采用兩個開關(guān)管和兩個二極管，可實現(xiàn)同極性電壓升降壓功能。
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電磁繼電器是一種電子控制器件，它具有控制系統(tǒng)（又稱輸入回路）和被控制系統(tǒng)（又稱輸出回路），通常應用于自動控制電路中，它實際上是用較小的電流、較低的電壓去控制較大電流、較高的電壓的一種“自動開關(guān)”。故在電路中起著自動調(diào)節(jié)、安全保護、轉(zhuǎn)換電路等作用。
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