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      電子發(fā)燒友網(wǎng)>電子資料下載>傳感與控制>光刻機(jī)劑量控制器結(jié)構(gòu)與深紫外準(zhǔn)分子激光實(shí)時(shí)曝光劑量控制算法研究

      光刻機(jī)劑量控制器結(jié)構(gòu)與深紫外準(zhǔn)分子激光實(shí)時(shí)曝光劑量控制算法研究

      2017-09-30 | rar | 1 MB | 次下載 | 免費(fèi)

      資料介紹

      　　光刻機(jī)掃描曝光模型

      　　掃描曝光過(guò)程的抽象模型如圖 1 所示 。激光器發(fā)出的脈沖光束經(jīng)過(guò)光路傳輸系統(tǒng)， 從開(kāi)口大小可調(diào)的狹縫中投影到工件臺(tái)上， 形成投影光斑 。當(dāng)曝光場(chǎng)前沿與光斑前沿重合時(shí) ，掃描開(kāi)始;此后曝光場(chǎng)勻速經(jīng)過(guò)投影光斑;當(dāng)曝光場(chǎng)后沿與光斑后沿重合時(shí) ，掃描結(jié)束 。

      　　光刻機(jī)劑量控制器結(jié)構(gòu)與深紫外準(zhǔn)分子激光實(shí)時(shí)曝光劑量控制算法研究

      　　光刻機(jī)劑量控制器結(jié)構(gòu)

      　　掃描投影光刻機(jī)劑量控制系統(tǒng)如圖 2 所示 ，從準(zhǔn)分子激光器發(fā)出的脈沖激光， 先經(jīng)過(guò)底端照明光路（包括光束擴(kuò)充鏡組、定位 定向鏡組、縮放 錐形鏡組等）和可變透過(guò)率衰減片， 到達(dá)能量傳感器， 再經(jīng)過(guò)頂端照明光路（包括光能量均勻棒 、掃描狹縫、照明鏡組等）、掩模版和投影物鏡， 最終投射到硅片表面。光路中安裝有一個(gè)能量傳感器， 測(cè)量每個(gè)激光脈沖的能量并結(jié)合實(shí)時(shí)調(diào)節(jié)算法， 計(jì)算出下一個(gè)單脈沖能量的設(shè)定值;最后通過(guò)能量 電壓轉(zhuǎn)換關(guān)系將能量設(shè)定值轉(zhuǎn)換成電壓設(shè)定值， 以達(dá)到控制激光器單脈沖能量并保證劑量精度的目的 。

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