--- 產(chǎn)品詳情 ---
俄羅斯Active Optics NightN Ltd公司自適應(yīng)光學系統(tǒng)
---- 自適應(yīng)光學系統(tǒng)
公司介紹:
NightN成立于1999年,最初名為Night N Ltd.,但隨著業(yè)務(wù)的增長。于2003年決定把Night N Ltd.拆分成幾個分支公司,創(chuàng)辦了Night N (opt),專注于光學領(lǐng)域。此外,他們還設(shè)立了幾家附屬公司,如Active Optics Ltd.、DIOP Ltd.以及Adaptive Optics Institute Ltd.,這些公司致力于研究不同光學主題,如全息術(shù)、量子通信和波前傳感等。該公司還在俄羅斯科學院地球圈層動力學研究所設(shè)有實驗室。
產(chǎn)品包含:
1.自適應(yīng)光學系統(tǒng)
2.壓電雙晶片可變形鏡
3.低成本微型壓電雙晶片可變形鏡
4.Shack-Hartmann 波前傳感器
5.M2-傳感器
6.斐索干涉儀RIF
7.基于 Shack-Hartmann 波前傳感器的光學測試儀 HION
8.人眼像差計
9.用于大型光學器件(100 mm以上)的運動基座
1.自適應(yīng)光學系統(tǒng)
產(chǎn)品介紹:
閉環(huán)自適應(yīng)光學系統(tǒng)旨在校正激光束在激光加工過程中產(chǎn)生的低階像差。該系統(tǒng)由作為波前校正器的可變形雙壓電晶片(DM)、使用改進的Shack-Hartmann技術(shù)測量波前梯度的傳感器和實現(xiàn)閉環(huán)算法的軟件組成。

產(chǎn)品能力:
1.光束直徑 - 高達500 mm
2.波長范圍 - 400…1100 nm(可定制)
3.波前采樣 - 20x20 或更多微型透鏡
4.工作頻率 - 高達 100 Hz
5.最大校正像差 - 高達 30 λ @ 632.8 nm
6.校正精度 - 優(yōu)于 λ / 10 @ 632.8 nm
7.工作電壓 - 100-120&或者200-240VAC @ 50/60 Hz
閉環(huán)自適應(yīng)光學系統(tǒng)標準套件:
1.壓電雙晶片可變形鏡
2.可變形鏡控制器
3.哈特曼波前傳感器
4.M2傳感器(可選)
5.計算機(可選)
2.壓電雙晶片可變形鏡
產(chǎn)品介紹:

標準雙晶片反射鏡:
1.孔徑: 10-500 mm
2.變形行程:高達 40 μm
3.執(zhí)行器個數(shù):1-128
4.頻率范圍:高達 5 KHz
5.遲滯:12 %
6.損傷閾值:玻璃 20J/cm2,鈦藍寶石激光 3J/cm2
7.反射涂層:保護性鋁,保護性銀,金屬介質(zhì)膜,多層介質(zhì)膜(給定波長反射率ρ≥99%)等
水冷型壓電雙晶片變形鏡:
1.材料 - 銅、硅
2.孔徑 - 20-100 mm
3.變形行程 - 高達15μm
4.損傷閾值 - CO2激光10kW/cm2,玻璃激光50kW/cm2
5.執(zhí)行器個數(shù) - 最多32個
6.頻率范圍 - 高達4 KHz
7.反射膜鍍膜:客戶定制
每個壓電雙晶片變形鏡都配有控制單元的電子模塊,通過USB端口或ISA I/O卡與PC相連。包括標準軟件。根據(jù)需求,主動壓電雙晶片變形鏡可通過傾斜校正器或傾斜保持架進行補充。
3.高性價比微型壓電雙晶片可變形鏡
產(chǎn)品介紹:
微型雙晶片變形反射鏡是特別為激光光束像差控制設(shè)計的Bimorph Mirrors。制造這種微型可變形鏡有兩種方法:第一種是使用多個壓電陶瓷盤,第二種是在相當小的正方形壓電陶瓷上放置高密度網(wǎng)格控制電極,從而制造小電極。
型號參數(shù):
1.孔徑: 從 12 mm起
2.施加電壓:0 V - 300 V
3.變形行程:高達 10 μm
4.控制電極數(shù)量:18
5.頻率范圍:5 KHz
6.遲滯:12 %
7.損傷閾值:對于 λ= 0.8μm - 3J/cm2
λ=1.06μm - 20J/cm2
每個可變形鏡都配有獨立的電子控制單元塊,通過USB端口連接到 PC 計算機。配件中包括標準軟件。

4.Shack-Hartman波前傳感器
產(chǎn)品介紹:
1.相位測量范圍:高達 15μ
2.測量精度:λ/100 (RMS)
3.輸入光束直徑:4-100 mm 及以上
4.工作子孔徑數(shù)量:400起
6.工作波長范圍:400 nm – 1100 nm
7.采集頻率/幀率:高達 60 Hz
8.脈沖和 CW 激光束診斷

Shack-Hartmann波前傳感器  | 
型號參數(shù):
型號  | WFS-11.26-3.2-0.136  | WFS-7.03-3.2-0.136  | WFS-4.91-3.2-0.136  | 
孔徑  | 11.26 mm  | 7.03 mm  | 4.91 mm  | 
工作子孔徑數(shù)量  | 4800  | 1870  | 910  | 
微透鏡焦距  | 3.2 mm  | 3.2 mm  | 3.2 mm  | 
空間分辨率  | 136 μ  | 136 μ  | 136 μ  | 
動態(tài)范圍  | 185 μ(傾斜) 45 μ(散焦)  | 115 μ  | 80 μ  | 
測量精度 RMS  | 10 nm(絕對) 2 nm(相對)  | 12 nm  | 10 nm  | 
重復(fù)性  | 0.9 nm  | /  | /  | 
最小曲率半徑*  | 340 mm  | 210 mm  | 150  | 
ROC 測量精度 -  | 0.4 mm  | 0.4 mm  | 0.5 mm  | 
曲率測量靈敏度(λ = 650 nm)  | 250 m  | 90 m  | 45 m  | 
硬件包括:
1.微型透鏡陣列
2.單色 CCD/CMOS 相機 (IEEE 1394)
3.IEEE 1394 電纜(6 針-6 針)
可選:
1.可調(diào)鏡頭或望遠鏡系統(tǒng)
2.帶框架的中性密度光學濾鏡
3.參考波前源(準直器、單波長光纖耦合激光器、支架)
軟件包括:
1.圓形或多邊形掩模的波前重建
2.測量峰谷誤差PV
3.面形誤差RMS
4.將像差擴展到 Seidel 和 Zernike 多項式(傾斜、散焦、散光等)
5.干涉條紋,2D 和 3D 波前
6.強度分布重建
7.光束質(zhì)量因子 M2 的估計;光束表征參數(shù):激光束直徑、束腰和位置、光束發(fā)散度
8.繪制點擴散函數(shù)(PSF)、調(diào)制傳遞函數(shù)(MTF)圖
5.用于大型光學器件的運動基座
產(chǎn)品介紹:
設(shè)計為大型光學元件(100 mm以上)所提供一系列運動基座。


500 mm 光學基座
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