模擬電路網(wǎng)絡(luò)課件 第十九節(jié):金屬-氧化物-半導(dǎo)體場效應(yīng)管
4.3 金屬-氧化物-半導(dǎo)體場效應(yīng)管
結(jié)型場效應(yīng)管的輸入電阻雖然可達(dá)106~109W,但在要求輸入電阻更高的場合,還是不能滿足要求。而且,由于它的輸入電阻是PN結(jié)的反偏電阻,在高溫條件下工作時(shí),PN結(jié)反向電流增大,反偏電阻的阻值明顯下降。與結(jié)型場效應(yīng)管不同,金屬-氧化物-半導(dǎo)體場效應(yīng)管(MOSFET)的柵極與半導(dǎo)體之間隔有二氧化硅(SiO2)絕緣介質(zhì),使柵極處于絕緣狀態(tài)(故又稱絕緣柵場效應(yīng)管),因而它的輸入電阻可高達(dá)1015W。它的另一個(gè)優(yōu)點(diǎn)是制造工藝簡單,適于制造大規(guī)模及超大規(guī)模集成電路。
MOS管也有N溝道和P溝道之分,而且每一類又分為增強(qiáng)型和耗盡型兩種,二者的區(qū)別是增強(qiáng)型MOS管在柵-源電壓vGS=0時(shí),漏-源極之間沒有導(dǎo)電溝道存在,即使加上電壓vDS(在一定的數(shù)值范圍內(nèi)),也沒有漏極電流產(chǎn)生(iD=0)。而耗盡型MOS管在vGS=0時(shí),漏-源極間就有導(dǎo)電溝道存在。
4.3.1 N溝道增強(qiáng)型場效應(yīng)管
一、結(jié)構(gòu)

a) N溝道增強(qiáng)型MOS管結(jié)構(gòu)示意圖


(b) N溝道增強(qiáng)型MOS管代表符號(hào)??? (c) P溝道增強(qiáng)型MOS管代表符號(hào)
在一塊摻雜濃度較低的P型硅襯底上,用光刻、擴(kuò)散工藝制作兩個(gè)高摻雜濃度的N+區(qū),并用金屬鋁引出兩個(gè)電極,分別作漏極d和源極s。然后在半導(dǎo)體表面復(fù)蓋一層很薄的二氧化硅(SiO2)絕緣層,在漏-源極間的絕緣層上再裝上一個(gè)鋁電極,作為柵極g。另外在襯底上也引出一個(gè)電極B,這就構(gòu)成了一個(gè)N溝道增強(qiáng)型MOS管。顯然它的柵極與其它電極間是絕緣的。圖 1(a)、(b)分別是它的結(jié)構(gòu)示意圖和代表符號(hào)。代表符號(hào)中的箭頭方向表示由P(襯底)指向N(溝道)。P溝道增強(qiáng)型MOS管的箭頭方向與上述相反,如圖 1(c)所示。
二、工作原理
1.vGS對(duì)iD及溝道的控制作用
MOS管的源極和襯底通常是接在一起的(大多數(shù)管子在出廠前已連接好)。從圖1(a)可以看出,增強(qiáng)型MOS管的漏極d和源極s之間有兩個(gè)背靠背的PN結(jié)。當(dāng)柵-源電壓vGS=0時(shí),即使加上漏-源電壓vDS,而且不論vDS的極性如何,總有一個(gè)PN結(jié)處于反偏狀態(tài),漏-源極間沒有導(dǎo)電溝道,所以這時(shí)漏極電流iD≈0。
若在柵-源極間加上正向電壓,即vGS>0,則柵極和襯底之間的SiO2絕緣層中便產(chǎn)生一個(gè)垂直于半導(dǎo)體表面的由柵極指向襯底的電場,這個(gè)電場能排斥空穴而吸引電子,因而使柵極附近的P型襯底中的空穴被排斥,剩下不能移動(dòng)的受主離子(負(fù)離子),形成耗盡層,同時(shí)P襯底中的電子(少子)被吸引到襯底表面。當(dāng)vGS數(shù)值較小,吸引電子的能力不強(qiáng)時(shí),漏-源極之間仍無導(dǎo)電溝道出現(xiàn),如圖1(b)所示。vGS增加時(shí),吸引到P襯底表面層的電子就增多,當(dāng)vGS達(dá)到某一數(shù)值時(shí),這些電子在柵極附近的P襯底表面便形成一個(gè)N型薄層,且與兩個(gè)N+區(qū)相連通,在漏-源極間形成N型導(dǎo)電溝道,其導(dǎo)電類型與P襯底相反,故又稱為反型層,如圖1(c)所示。vGS越大,作用于半導(dǎo)體表面的電場就越強(qiáng),吸引到P襯底表面的電子就越多,導(dǎo)電溝道越厚,溝道電阻越小。我們把開始形成溝道時(shí)的柵-源極電壓稱為開啟電壓,用VT表示。
由上述分析可知,N溝道增強(qiáng)型MOS管在vGS<VT時(shí),不能形成導(dǎo)電溝道,管子處于截止?fàn)顟B(tài)。只有當(dāng)vGS≥VT時(shí),才有溝道形成,此時(shí)在漏-源極間加上正向電壓vDS,才有漏極電流產(chǎn)生。而且vGS增大時(shí),溝道變厚,溝道電阻減小,iD增大。這種必須在vGS≥VT時(shí)才能形成導(dǎo)電溝道的MOS管稱為增強(qiáng)型MOS管。
2.vDS對(duì)iD的影響

圖1

如圖2(a)所示,當(dāng)vGS>VT且為一確定值時(shí),漏-源電壓vDS對(duì)導(dǎo)電溝道及電流iD的影響與結(jié)型場效應(yīng)管相似。漏極電流iD沿溝道產(chǎn)生的電壓降使溝道內(nèi)各點(diǎn)與柵極間的電壓不再相等,靠近源極一端的電壓最大,這里溝道最厚,而漏極一端電壓最小,其值為vGD=vGS - vDS,因而這里溝道最薄。但當(dāng)vDS較?。╲DS 隨著vDS的增大,靠近漏極的溝道越來越薄,當(dāng)vDS增加到使vGD=vGS-vDS=VT(或vDS=vGS-VT)時(shí),溝道在漏極一端出現(xiàn)預(yù)夾斷,如圖2(b)所示。再繼續(xù)增大vDS,夾斷點(diǎn)將向源極方向移動(dòng),如圖2(c)所示。由于vDS的增加部分幾乎全部降落在夾斷區(qū),故iD幾乎不隨vDS增大而增加,管子進(jìn)入飽和區(qū),iD幾乎僅由vGS決定。 三、特性曲線、電流方程及參數(shù) 1.特性曲線和電流方程 N溝道增強(qiáng)型MOS管的輸出特性曲線如圖1(a)所示。與結(jié)型場效應(yīng)管一樣,其輸出特性曲線也可分為可變電阻區(qū)、飽和區(qū)、截止區(qū)和擊穿區(qū)幾部分。轉(zhuǎn)移特性曲線如圖1(b)所示,由于場效應(yīng)管作放大器件使用時(shí)是工作在飽和區(qū)(恒流區(qū)),此時(shí)iD幾乎不隨vDS而變化,即不同的vDS所對(duì)應(yīng)的轉(zhuǎn)移特性曲線幾乎是重合的,所以可用vDS大于某一數(shù)值(vDS>vGS-VT)后的一條轉(zhuǎn)移特性曲線代替飽和區(qū)的所有轉(zhuǎn)移特性曲線,與結(jié)型場效應(yīng)管相類似。在飽和區(qū)內(nèi),iD與vGS的近似關(guān)系式為 ???? 式中IDO是vGS=2VT時(shí)的漏極電流iD。 2. 參數(shù) MOS管的主要參數(shù)與結(jié)型場效應(yīng)管基本相同,只是增強(qiáng)型MOS管中不用夾斷電壓VP,而用開啟電壓VT表征管子的特性。 4.3.2 N溝道耗盡型場效應(yīng)管 圖1 相關(guān)推薦
圖1
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結(jié)構(gòu)種類
工作方式
符?? 號(hào)
電壓極性
轉(zhuǎn)移特性
iD = f (vGS)輸出特性
iD = f (vDS)
VP或VT
VDS
N溝道
MOSFET耗
盡
型
(-)
(+)


增
強(qiáng)
型
(+)
(+)


P溝道
MOSFET耗
盡
型
(+)
(-)


增
強(qiáng)
型
(-)
(-)


P溝道
JFET耗
盡
型
(+)
(-)


N溝道
JFET耗
盡
型
(-)
(+)


P溝道
GaAs
MESFET耗
盡
型
(-)
(+)


結(jié)型場效應(yīng)管和絕緣柵型場效應(yīng)管的區(qū)別是什么?
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