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歐洲啟動1nm及光芯片試驗線

科技綠洲 ? 來源:網(wǎng)絡(luò)整理 ? 作者:網(wǎng)絡(luò)整理 ? 2025-01-21 13:50 ? 次閱讀
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近日,歐洲五大頂尖研究機構(gòu)——比利時imec、法國CEA-Leti、德國Fraunhofer-Gesellschaft、意大利Consiglio Nazionale delle Ricerche及西班牙ICFO齊聚一堂,共同揭幕了首批五條依據(jù)歐盟《芯片法案》設(shè)立的試驗線。此舉旨在縮小研究與制造之間的鴻溝,強化CMOS半導(dǎo)體生態(tài)系統(tǒng)。

其中,imec牽頭的NanoIC試驗線尤為引人注目。該項目耗資高達14億美元,不僅將超越當前正在研發(fā)的2nm工藝技術(shù),更將覆蓋從1nm至7A(即0.7nm)的尖端工藝領(lǐng)域。NanoIC試驗線的啟動,標志著歐洲在半導(dǎo)體技術(shù)研發(fā)方面邁出了重要一步。

此外,NanoIC試驗線還匯聚了眾多合作伙伴,包括芬蘭VTT、羅馬尼亞CSSNT、愛爾蘭廷德爾國家研究所,以及光刻設(shè)備巨頭ASML。這些合作伙伴的加入,無疑將為NanoIC試驗線提供強大的技術(shù)支持和資源保障。

此次五條試驗線的啟動,不僅體現(xiàn)了歐洲在半導(dǎo)體領(lǐng)域的雄心和實力,更將為全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展注入新的活力和動力。未來,隨著這些試驗線的深入運營和發(fā)展,歐洲有望在半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域取得更多突破性成果。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
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