文章來源：Tom聊芯片智造

原文作者：Tom

隨著線條寬度的不斷縮小，為了防止膠上圖形出現(xiàn)太大的深寬比，提高對(duì)比度，應(yīng)該采用很薄的光刻膠。但薄膠會(huì)遇到耐腐蝕性的問題。由此開發(fā)出了 雙層光刻膠技術(shù)，這也是所謂超分辨率技術(shù)的組成部分。

涂雙層膠一般不是為了增加厚度，如果僅僅為了增加厚度，完全沒必要做雙層，因?yàn)殡p層膠工藝難度極大，而且各種厚度的光刻膠都可以買到。而雙層膠工藝一般是在Lift-off工藝中使用的較多。

一般的lift off膠分辨率較低，如下圖所示，無法做更精細(xì)的結(jié)構(gòu)：

而雙層膠結(jié)構(gòu)可以看出上層膠的開口較小，而下層膠的開口較大，這樣在鍍膜的時(shí)候，可以做出的圖形更小。

雙層膠的工藝是什么樣的？

1，底層膠涂覆，烘烤

2，第二層膠涂敷，烘烤

3，曝光

4，顯影

為什么下面的膠溶解的更多？

該雙層膠，上層是光刻膠，可曝光可顯影，下層膠不感光但可溶于堿溶液。顯影時(shí)，先將上層的光刻膠顯影出圖案，之后顯影劑開始以各向同性方式溶解底層。這樣就制作出了上下兩層開口不同的效果。