韓國(guó)SKMP開發(fā)出高厚度KrF光刻膠，可助力3D NAND閃存制造
sk集團(tuán)于2020年以400億韓元收購(gòu)錦湖石化的電子材料事業(yè)后，新成立的子公司sk materials performance （skmp）開發(fā)出了得到SK海力士的性能驗(yàn)證的高厚度KrF光刻膠。這將有助于sk海力士開發(fā)3d nand閃存技術(shù)。
據(jù)悉，skmp開發(fā)的新型KrF光刻膠的厚度為14至15米，與東進(jìn)半導(dǎo)體（DONGJIN SEMICHEM）向三星提供的產(chǎn)品相似。日本jsr公司的類似產(chǎn)品厚度只有10微米。
光刻膠的厚度有助于提高3d nand閃存的工藝效率。但是厚度的提高意味著技術(shù)難度的提高。因?yàn)榛瘜W(xué)材料的黏著力會(huì)使涂層表面變得粗糙。
隨著SKMP加入競(jìng)爭(zhēng)行列，sk海力士可以利用該產(chǎn)品生產(chǎn)238段3d nand閃存。skmp很有可能取代日本jsr的主導(dǎo)地位，成為skmp的主要供應(yīng)商。
目前，sk海力士238層3d nand閃存晶圓的月生產(chǎn)能力約為5000個(gè)，今后有望進(jìn)一步提高生產(chǎn)能力，帶動(dòng)skmp的光刻膠銷售。
sk海力士計(jì)劃于2025年批量生產(chǎn)1tb容量的tlc 4d nand產(chǎn)品，該產(chǎn)品于2023年8月在世界上首次推出了321層nand閃存試制品。
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