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                  高端芯片制造裝備的“中國(guó)方案”:等離子體相似定律與尺度網(wǎng)絡(luò)突破
圖1.射頻放電診斷系統(tǒng)與相似射頻放電參數(shù)設(shè)計(jì) 核心摘要: 清華大學(xué)與密歇根州立大學(xué)聯(lián)合團(tuán)隊(duì)在頂級(jí)期刊《物理評(píng)論快報(bào)》發(fā)表重大成果,首次通過(guò)實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證了射頻等離子體的相似性定律,并成功構(gòu)建全球首個(gè)
    
    
                    
    
遠(yuǎn)程等離子體刻蝕技術(shù)介紹
遠(yuǎn)程等離子體刻蝕技術(shù)通過(guò)非接觸式能量傳遞實(shí)現(xiàn)材料加工,其中熱輔助離子束刻蝕(TAIBE)作為前沿技術(shù),尤其適用于碳氟化合物(FC)材料(如聚四氟乙烯PTFE)的精密處理。
    
    
                    
    
安泰高壓放大器在等離子體發(fā)生裝置研究中的應(yīng)用
等離子體發(fā)生裝置通過(guò)外部能量輸入使氣體電離生成等離子體,在工業(yè)制造、材料科學(xué)、生物醫(yī)療等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛。高壓放大器作為能量供給的核心器件,直接影響等離子體的生成效率、穩(wěn)定性和可控性。 圖
    
    
                    
    
等離子體蝕刻工藝對(duì)集成電路可靠性的影響
隨著集成電路特征尺寸的縮小,工藝窗口變小,可靠性成為更難兼顧的因素,設(shè)計(jì)上的改善對(duì)于優(yōu)化可靠性至關(guān)重要。本文介紹了等離子刻蝕對(duì)高能量電子和空穴注入柵氧化層、負(fù)偏壓溫度不穩(wěn)定性、等離子體誘發(fā)損傷、應(yīng)力遷移等問(wèn)題的影響,從而影響
    
    
                    
    
等離子體的一些基礎(chǔ)知識(shí)
等離子體(Plasma)是一種電離氣體,通過(guò)向氣體提供足夠的能量,使電子從原子或分子中掙脫束縛、釋放出來(lái),成為自由電子而獲得,通常含有自由和隨機(jī)移動(dòng)的帶電粒子(如電子、離子)和未電離的中性粒子。由于
    
    
                    
    
OptiFDTD應(yīng)用:納米盤(pán)型諧振腔等離子體波導(dǎo)濾波器
簡(jiǎn)介 :
?表面等離子體激元(SPPs)是由于金屬中的自由電子和電介質(zhì)中的電磁場(chǎng)相互作用而在金屬表面捕獲的電磁波,并且它在垂直于界面的方向上呈指數(shù)衰減。[1]
?與絕緣體-金屬-絕緣體(IMI
    
                發(fā)表于 01-09 08:52        
                    
    
等離子的基本屬性_等離子體如何發(fā)生
射頻等離子體(RF等離子體)是在氣流中通過(guò)外部施加的射頻場(chǎng)形成的。當(dāng)氣體中的原子被電離時(shí)(即電子在高能條件下與原子核分離時(shí)),就會(huì)產(chǎn)生等離子體。這種電離過(guò)程可以通過(guò)各種方法實(shí)現(xiàn),包括熱、電和電磁
    
    
                    
    
等離子體發(fā)射器的工作原理
在探索宇宙的征途中,人類(lèi)一直在尋找更高效、更環(huán)保的推進(jìn)技術(shù)。 等離子體基礎(chǔ) 等離子體,被稱為物質(zhì)的第四態(tài),是一種由離子、電子和中性粒子組成的高溫、高電導(dǎo)率的氣體。在自然界中,等離子體存
    
    
等離子體技術(shù)在航天中的作用
一、等離子體推進(jìn)技術(shù) 等離子體推進(jìn)技術(shù)是利用等離子體的高速運(yùn)動(dòng)來(lái)產(chǎn)生推力的一種航天推進(jìn)方式。與傳統(tǒng)化學(xué)推進(jìn)相比,等離子體推進(jìn)具有更高的比沖,這意味著在消耗相同質(zhì)量的推進(jìn)劑時(shí),
    
    
等離子體電導(dǎo)率的影響因素
等離子體,作為物質(zhì)的第四態(tài),廣泛存在于自然界和工業(yè)應(yīng)用中。從太陽(yáng)風(fēng)到熒光燈,等離子體的身影無(wú)處不在。等離子體的電導(dǎo)率是衡量其導(dǎo)電性能的關(guān)鍵參數(shù),它決定了等離子體在電磁場(chǎng)中的行為。 1.
    
    
等離子體的定義和特征
等離子體的定義 等離子體是一種由離子、電子和中性粒子組成的電離氣體。在這種狀態(tài)下,物質(zhì)的部分或全部原子被電離,即原子核與電子分離,形成了帶正電的離子和自由移動(dòng)的電子。這種電離狀態(tài)使得
    
    
等離子體在醫(yī)療領(lǐng)域的應(yīng)用
等離子體,作為物質(zhì)的第四態(tài),不僅在物理學(xué)和工程學(xué)領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用,而且在醫(yī)療領(lǐng)域也展現(xiàn)出了巨大的潛力。等離子體技術(shù)以其獨(dú)特的物理和化學(xué)特性,為疾病治療和生物醫(yī)學(xué)研究提供了新的工具和方法。 1.
    
    
等離子體清洗的原理與方法
等離子體清洗的原理 等離子體是物質(zhì)的第四態(tài),由離子、電子、自由基和中性粒子組成。等離子體清洗的原理主要基于以下幾點(diǎn): 高活性粒子 :等離子體
    
    
為什么干法刻蝕又叫低溫等離子體刻蝕
本文介紹了為什么干法刻蝕又叫低溫等離子體刻蝕。 什么是低溫等離子體刻蝕,除了低溫難道還有高溫嗎?等離子體的溫度?? ? 等離子體是物質(zhì)的第四態(tài),并不是只有半導(dǎo)體制造或工業(yè)領(lǐng)域中才會(huì)有
    
    
                    
    
什么是等離子體
等離子體,英文名稱plasma,是物質(zhì)的第四態(tài),其他三態(tài)有固態(tài),液態(tài),氣態(tài)。在半導(dǎo)體領(lǐng)域一般是氣體被電離后的狀態(tài),又被稱為‘電漿’,具有帶電性和流動(dòng)性的特點(diǎn)。
    
    
                    
    
          
        
        
等離子體摻雜∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書(shū)》
                
 


           
            
            
                
            
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