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三星電子首款12納米級DDR5 DRAM開發(fā)成功

全球TMT ? 來源:全球TMT ? 作者:全球TMT ? 2022-12-21 21:19 ? 次閱讀
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- 三星電子新款DRAM將于2023年開始量產(chǎn),以優(yōu)異的性能和更高的能效,推動下一代計算、數(shù)據(jù)中心AI應(yīng)用的發(fā)展

中國深圳2022年12月21日 /美通社/ -- 三星電子宣布,已成功開發(fā)出其首款采用12納米(nm)級工藝技術(shù)打造的16 Gb DDR5 DRAM,并與AMD一起完成了兼容性方面的產(chǎn)品評估。

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三星電子首款12納米級DDR5 DRAM

三星電子高級副總裁兼DRAM產(chǎn)品與技術(shù)負責人Jooyoung Lee表示:"三星12nm級DRAM將成為推動整個市場廣泛采用DDR5 DRAM的關(guān)鍵因素。憑借卓越的性能和能效,我們希望新款DRAM能夠成為下一代計算、數(shù)據(jù)中心和AI驅(qū)動系統(tǒng)等領(lǐng)域更可持續(xù)運營的基礎(chǔ)。"

AMD高級副總裁、企業(yè)院士兼客戶、計算、圖形首席技術(shù)官Joe Macri表示:"創(chuàng)新往往少不了與行業(yè)伙伴的密切合作,來拓寬技術(shù)的邊界。我們很高興能與三星電子再度合作,特別是推出在Zen平臺上優(yōu)化和驗證的DDR5內(nèi)存產(chǎn)品。"

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三星電子首款12納米級DDR5 DRAM

這一技術(shù)突破是通過使用一種新的高介電(high-k)材料來增加電池電容,以及改進關(guān)鍵電路特性的專利設(shè)計技術(shù)而實現(xiàn)的。結(jié)合先進的多層極紫外(EUV)光刻技術(shù),新款DRAM擁有三星最高的DDR5 Die密度(Die density),可使晶圓生產(chǎn)率提高20%。

基于DDR5最新標準,三星12nm級DRAM將解鎖高達7.2千兆每秒(Gbps)的速度,這意味著一秒鐘內(nèi)處理兩部30GB的超高清(UHD)電影。

新款DRAM同時擁有卓越的速度與更高的能效。與上一代三星DRAM產(chǎn)品相比,12nm級DRAM的功耗降低約23%,對于更多追求環(huán)保經(jīng)營的全球IT企業(yè)來說,這將會是值得考慮的優(yōu)選解決方案。

隨著2023年新款DRAM量產(chǎn),三星計劃將這一基于先進12nm級工藝技術(shù)的DRAM產(chǎn)品擴展到更廣泛的市場領(lǐng)域,同時繼續(xù)與行業(yè)伙伴合作,推動下一代計算的快速發(fā)展。

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三星電子首款12納米級DDR5 DRAM

審核編輯 黃昊宇

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