【EMC技術(shù)案例】共模電感與電源模塊之間PCB走線導(dǎo)致RE超標(biāo)案例
發(fā)表于 09-28 15:05
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本文要點(diǎn)作為一名資深的電子設(shè)計(jì)工程師,在Allegro中將走線優(yōu)化好、散熱調(diào)整好、阻抗控制精準(zhǔn),能夠?yàn)楹笃谡{(diào)試和改板省下不少心力,好處就不用多說(shuō)了!上期我們介紹了如何利用約束管理器去約束我們的走線
發(fā)表于 09-12 16:07
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簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō),Die(發(fā)音為/da?/,中文常稱為裸片、裸晶、晶?;蚓┦侵笍囊徽瑘A形硅晶圓(Wafer)上,通過(guò)精密切割(Dicing)工藝分離下來(lái)的、單個(gè)含有完整集成電路(IC)功能的小方塊。
發(fā)表于 08-21 10:46
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? 新版本的 Copilot 支持 Prompt 提示詞的保存、導(dǎo)入及導(dǎo)出。您可以直接調(diào)用常用的提示詞,結(jié)合與圖紙的交互功能,快速實(shí)現(xiàn)想要的效果。 點(diǎn)擊 Copilot 對(duì)話框右下角的小方塊,調(diào)用或設(shè)置您的提示詞。 使用預(yù)置的提示詞 點(diǎn)擊小方塊后,您可以直接點(diǎn)擊調(diào)用預(yù)置
發(fā)表于 07-21 11:15
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電阻的測(cè)試分為方塊電阻和接觸電阻,方塊電阻是電路設(shè)計(jì)的重要組成部分,其阻值準(zhǔn)確性嚴(yán)重影響電路的性能,F(xiàn)ab廠通過(guò)WAT參數(shù)方塊電阻Rs監(jiān)測(cè)它們。
發(fā)表于 07-15 14:33
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光纖“大方轉(zhuǎn)小方”通常指的是將光纖接口從大方頭(如SC型接口)轉(zhuǎn)換為小方頭(如LC型接口)的適配器或跳線,這在光纖網(wǎng)絡(luò)部署中是常見(jiàn)的需求,以下是對(duì)其的詳細(xì)解析: 一、接口類型與特點(diǎn) 大方頭接口(SC
發(fā)表于 06-05 09:53
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在PCB設(shè)計(jì)中,若需提取特定封裝,傳統(tǒng)用Allegro自帶導(dǎo)出方法需通過(guò)"File→Export→Libraries"導(dǎo)出全部封裝庫(kù)文件。
發(fā)表于 04-16 17:33
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作者:Jake Hertz 印刷電路板 (PCB) 是現(xiàn)代電子產(chǎn)品的支柱,幾乎是所有電子設(shè)備的基礎(chǔ)。在用于生產(chǎn) PCB 的各種方法中,銑削是一種流行的技術(shù),特別是用于原型制作和小規(guī)模生
發(fā)表于 01-26 21:25
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大家知道芯片是一個(gè)要求極其嚴(yán)格的東西,為此我們生產(chǎn)中想盡辦法想要讓它減少污染,更加徹底去除污染物。那么,今天來(lái)說(shuō)說(shuō),大家知道芯片濕法刻蝕殘留物到底用什么方法去除的呢? 芯片濕法刻蝕殘留物去除
發(fā)表于 12-26 11:55
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CMOS 工藝平臺(tái)的金屬方塊電阻的測(cè)試結(jié)構(gòu)包含該平臺(tái)的所有金屬層,例如如果該平臺(tái)使用五層金屬層,那么金屬方塊電阻的測(cè)試結(jié)構(gòu)就有第一層金屬(M1)方塊電阻、第二層金屬(M2)方塊電阻、第
發(fā)表于 12-03 09:46
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CMOS工藝平臺(tái)的Poly 方塊電阻有四種類型的電阻,它們分別是n型金屬硅化物 Poly 方塊電阻、P型金屬硅化物 Poly 方塊電阻、n 型非金屬硅化物 Poly 方塊電阻和p型非金
發(fā)表于 11-29 11:06
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圖5-34所示為PW方塊電阻的版圖,圖5-35所示為它的剖面圖。PW方塊電阻是通過(guò)DNW 隔離襯底(P-sub),如果沒(méi)有DNW的隔離,這個(gè)PW 方塊電阻會(huì)與 P-sub短路。
發(fā)表于 11-29 11:05
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CMOS 工藝技術(shù)平臺(tái)的方塊電阻的測(cè)試結(jié)構(gòu)是NW方塊電阻、PW方塊電阻、Poly 方塊電阻、AA 方塊
發(fā)表于 11-27 16:03
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光刻膠作為掩模進(jìn)行干法刻蝕或是濕法腐蝕后,一般都是需要及時(shí)的去除清洗,而一些高溫或者其他操作往往會(huì)導(dǎo)致光刻膠碳化難以去除。
發(fā)表于 11-11 17:06
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本文簡(jiǎn)單介去除晶圓表面顆粒的原因及方法。
在12寸(300毫米)晶圓廠中,清洗是一個(gè)至關(guān)重要的工序。晶圓廠會(huì)購(gòu)買(mǎi)大量的高純度濕化學(xué)品如硫酸,鹽酸,雙氧水,氨水,氫氟酸等用于清洗。
發(fā)表于 11-11 09:40
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評(píng)論