亚洲精品久久久久久久久久久,亚洲国产精品一区二区制服,亚洲精品午夜精品,国产成人精品综合在线观看,最近2019中文字幕一页二页

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

疫情引發(fā)斷料危機(jī),光刻膠國產(chǎn)化迫在眉睫

獨(dú)愛72H ? 來源:電子工程世界 ? 作者:電子工程世界 ? 2020-04-30 14:45 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

(文章來源:電子工程世界)

自新冠疫情爆發(fā)以來,國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)率先遭遇了“斷料危機(jī)”,而隨著海外疫情持續(xù)蔓延,全球半導(dǎo)體供應(yīng)鏈?zhǔn)艿降奶魬?zhàn)越來越大。連晶圓代工龍頭臺(tái)積電都對此表示擔(dān)心,臺(tái)積電在年報(bào)中指出,“新冠疫情可能會(huì)從各個(gè)環(huán)節(jié)來影響其公司的正常運(yùn)作,其中包括中斷全球半導(dǎo)體供應(yīng)鏈及臺(tái)積電的供應(yīng)商的運(yùn)營,包括亞洲、歐洲及北美”。

疫情之下,作為一種用量大但備貨少的材料,光刻膠供應(yīng)安全尤為受到關(guān)注,而國內(nèi)半導(dǎo)體光刻膠廠商目前僅實(shí)現(xiàn)了i線(365nm)和KrF線(248nm)兩種光刻膠的規(guī)模化量產(chǎn),對于更高端的ArF以及EUV光刻膠尚未有所突破。盡管如此,隨著國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)對供應(yīng)鏈的安全愈發(fā)重視,各大晶圓廠均加強(qiáng)與國產(chǎn)光刻膠廠商的合作,國產(chǎn)光刻膠廠商也在全力推動(dòng)研發(fā)進(jìn)度。

在半導(dǎo)體所有的化學(xué)品中,光刻膠是價(jià)格最貴的材料之一,但有效期卻最短(80%以上的光刻膠進(jìn)廠后有效期僅有90天)。為了避免不必要的浪費(fèi),晶圓廠正常的原材料庫存并不會(huì)太多,通常來說,在滿載的晶圓廠里面需要用到的光刻膠會(huì)有30多種,部分產(chǎn)品甚至每個(gè)月都要進(jìn)貨。

集微網(wǎng)在此前曾報(bào)道,隨著美國加州發(fā)布“就地避難令”,根據(jù)當(dāng)?shù)卣囊?,?dāng)?shù)毓S均暫時(shí)關(guān)閉運(yùn)營,其中就包括半導(dǎo)體設(shè)備工廠以及JSR、DuPont(杜邦)在內(nèi)的小部分半導(dǎo)體材料工廠。集微網(wǎng)了解到,盡管上述工廠很快就恢復(fù)了正常運(yùn)營,對購買JSR、DuPont光刻膠的晶圓廠整體運(yùn)營并未造成太大影響。

不過,由于光刻膠具有極高的技術(shù)壁壘,潛在擬進(jìn)入者很難對光刻膠成品進(jìn)行逆向分析和仿制。因此,全球光刻膠行業(yè)呈現(xiàn)寡頭壟斷格局,長期被日本、歐美的專業(yè)公司壟斷,其中,日本的企業(yè)占據(jù)80%的全球市場。

光刻膠主要企業(yè)包括日本的TOK、JSR、富士、信越化學(xué)和住友化學(xué),美國的陶氏化學(xué)、歐洲的AZEM和韓國的東進(jìn)世美肯等,而國內(nèi)在高端光刻膠及配套關(guān)鍵材料產(chǎn)品方面一直處于空白狀態(tài),因此,業(yè)內(nèi)對于供應(yīng)鏈的安全卻愈發(fā)擔(dān)憂,光刻膠國產(chǎn)化也迫在眉睫。

據(jù)了解,目前國內(nèi)僅蘇州瑞紅(晶瑞股份子公司)和北京科華具有半導(dǎo)體光刻膠的規(guī)?;a(chǎn)能力,二者分別承擔(dān)了并完成了國家重大科技項(xiàng)目02專項(xiàng)“i線光刻膠產(chǎn)品開發(fā)及產(chǎn)業(yè)化”以及“KrF線光刻膠產(chǎn)業(yè)化”項(xiàng)目。

晶瑞股份在2019年年報(bào)中表示,蘇州瑞紅完成了多款i線光刻膠產(chǎn)品技術(shù)開發(fā)工作,并實(shí)現(xiàn)銷售,取得揚(yáng)杰科技、福順微電子等國內(nèi)企業(yè)的供貨訂單,并在士蘭微、吉林華微、深圳方正等知名半導(dǎo)體廠進(jìn)行測試;高端KrF光刻膠處于中試階段。

不過,過去一年,晶瑞股份的光刻膠業(yè)務(wù)實(shí)現(xiàn)營業(yè)收入7,915.78萬元,比上年同期減少6.02%,毛利率50.95%,同比下降2%。北京科華完成了紫外正性光刻膠、集成電路用高分辨G線正膠、I線正膠、KrF深紫外光刻膠的產(chǎn)線建設(shè)和量產(chǎn)出貨,客戶包括中芯國際、華潤上華、士蘭微、華微電子、三安光電、華燦光電等。

從南大光電披露的公告顯示,北京科華2019年實(shí)現(xiàn)營收7046萬元,比上年同期的7895萬元下滑10.75%,凈利潤為545萬元,上年同期為1015萬元。

對于業(yè)績下滑方面,晶瑞股份和北京科華并未做出解釋。不過,南大光電表示,當(dāng)我國形成自己的本土化光刻膠產(chǎn)品時(shí),相應(yīng)的國外壟斷企業(yè)必然要啟動(dòng)反制機(jī)制以最大限度的力量阻礙我國自主獨(dú)立產(chǎn)業(yè)鏈的發(fā)展,可能存在與本土企業(yè)在國內(nèi)市場打價(jià)格戰(zhàn)的情況,進(jìn)而阻礙與推遲本土產(chǎn)品進(jìn)入國內(nèi)主流市場和隨之要推進(jìn)的產(chǎn)業(yè)化。

盡管筆者并不知曉國外企業(yè)是否啟動(dòng)了反制機(jī)制,但同樣的事情已經(jīng)在半導(dǎo)體各個(gè)細(xì)分行業(yè)得到過無數(shù)次的驗(yàn)證。
(責(zé)任編輯:fqj)

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 光刻機(jī)
    +關(guān)注

    關(guān)注

    31

    文章

    1192

    瀏覽量

    48678
  • 光刻膠
    +關(guān)注

    關(guān)注

    10

    文章

    347

    瀏覽量

    31473
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關(guān)推薦
    熱點(diǎn)推薦

    中國打造自己的EUV光刻膠標(biāo)準(zhǔn)!

    電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/黃山明)芯片,一直被譽(yù)為 人類智慧、工程協(xié)作與精密制造的集大成者 ,而制造芯片的重要設(shè)備光刻機(jī)就是 雕刻這個(gè)結(jié)晶的 “ 神之手 ”。但僅有光刻機(jī)還不夠,還需要光刻膠、掩膜版以及
    的頭像 發(fā)表于 10-28 08:53 ?5454次閱讀

    光刻膠剝離工藝

    光刻膠剝離工藝是半導(dǎo)體制造和微納加工中的關(guān)鍵步驟,其核心目標(biāo)是高效、精準(zhǔn)地去除光刻膠而不損傷基底材料或已形成的結(jié)構(gòu)。以下是該工藝的主要類型及實(shí)施要點(diǎn):濕法剝離技術(shù)有機(jī)溶劑溶解法原理:使用丙酮、NMP
    的頭像 發(fā)表于 09-17 11:01 ?636次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離工藝

    光刻膠旋涂的重要性及厚度監(jiān)測方法

    在芯片制造領(lǐng)域的光刻工藝中,光刻膠旋涂是不可或缺的基石環(huán)節(jié),而保障光刻膠旋涂的厚度是電路圖案精度的前提。優(yōu)可測薄膜厚度測量儀AF系列憑借高精度、高速度的特點(diǎn),為光刻膠厚度監(jiān)測提供了可靠
    的頭像 發(fā)表于 08-22 17:52 ?1158次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>旋涂的重要性及厚度監(jiān)測方法

    從光固化到半導(dǎo)體材料:久日新材的光刻膠國產(chǎn)替代之路

    當(dāng)您尋找可靠的國產(chǎn)半導(dǎo)體材料供應(yīng)商時(shí),一家在光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)全產(chǎn)業(yè)鏈突破的企業(yè)正脫穎而出——久日新材(688199.SH)。這家光引發(fā)劑巨頭,正以令人矚目的速度在半導(dǎo)體核心材料國產(chǎn)化浪潮
    的頭像 發(fā)表于 08-12 16:45 ?784次閱讀

    國產(chǎn)百噸級KrF光刻膠樹脂產(chǎn)線正式投產(chǎn)

    ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道 近日,八億時(shí)空宣布其KrF光刻膠萬噸級半導(dǎo)體制程高自動(dòng)研發(fā)/量產(chǎn)雙產(chǎn)線順利建成,標(biāo)志著我國在中高端光刻膠領(lǐng)域的自主進(jìn)程邁出關(guān)鍵一步。 ? 此次建成的KrF
    的頭像 發(fā)表于 08-10 03:26 ?7573次閱讀

    國產(chǎn)光刻膠突圍,日企壟斷終松動(dòng)

    量產(chǎn)到ArF浸沒式驗(yàn)證,從樹脂國產(chǎn)化到EUV原料突破,一場靜默卻浩蕩的技術(shù)突圍戰(zhàn)已進(jìn)入深水區(qū)。 ? 例如在248nm波長的KrF光刻膠武漢太紫微的T150A
    的頭像 發(fā)表于 07-13 07:22 ?5219次閱讀

    針對晶圓上芯片工藝的光刻膠剝離方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在晶圓上芯片制造工藝中,光刻膠剝離是承上啟下的關(guān)鍵環(huán)節(jié),其效果直接影響芯片性能與良率。同時(shí),光刻圖形的精確測量是保障工藝精度的重要手段。本文將介紹適用于晶圓芯片工藝的光刻膠剝離方法,并探討白光
    的頭像 發(fā)表于 06-25 10:19 ?610次閱讀
    針對晶圓上芯片工藝的<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕光刻膠剝離液及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在顯示面板制造的 ARRAY 制程工藝中,光刻膠剝離是關(guān)鍵環(huán)節(jié)。銅布線在制程中廣泛應(yīng)用,但傳統(tǒng)光刻膠剝離液易對銅產(chǎn)生腐蝕,影響器件性能。同時(shí),光刻圖形的精準(zhǔn)測量對確保 ARRAY 制程工藝精度
    的頭像 發(fā)表于 06-18 09:56 ?537次閱讀
    用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    減少光刻膠剝離工藝對器件性能影響的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    ? ? 引言 ? 在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,光刻膠剝離工藝是關(guān)鍵環(huán)節(jié),但其可能對器件性能產(chǎn)生負(fù)面影響。同時(shí),光刻圖形的精確測量對于保證芯片制造質(zhì)量至關(guān)重要。本文將探討減少光刻膠剝離工藝影響的方法,并介紹白光
    的頭像 發(fā)表于 06-14 09:42 ?569次閱讀
    減少<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離工藝對器件性能影響的方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域,光刻膠剝離液是光刻膠剝離環(huán)節(jié)的核心材料,其性能優(yōu)劣直接影響光刻膠去除效果與基片質(zhì)量。同時(shí),精準(zhǔn)測量光刻圖形對把控工藝質(zhì)量意義重大,白光干涉儀為此提供了
    的頭像 發(fā)表于 05-29 09:38 ?750次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及其制備方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    光刻膠的類型及特性

    光刻膠類型及特性光刻膠(Photoresist),又稱光致抗蝕劑,是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹了光刻膠類型和
    的頭像 發(fā)表于 04-29 13:59 ?5651次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的類型及特性

    光刻膠成為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料

    光刻膠是半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域的一種重要材料,在整個(gè)電子元器件加工產(chǎn)業(yè)有著舉足輕重的地位。 它主要由感光樹脂、增感劑和溶劑等成分組成。其中,感光樹脂決定了光刻膠的感光度和分辨率等關(guān)鍵性能,增感劑有助于提高
    的頭像 發(fā)表于 12-19 13:57 ?1539次閱讀

    光刻膠的主要技術(shù)參數(shù)

    分辨率(resolution)。區(qū)別硅片表面相鄰圖形特征的能力。一般用關(guān)鍵尺寸(CD,Critical Dimension)來衡量分辨率。形成的關(guān)鍵尺寸越小,光刻膠的分辨率越好。
    的頭像 發(fā)表于 11-15 10:10 ?4167次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的主要技術(shù)參數(shù)

    光刻膠清洗去除方法

    光刻膠作為掩模進(jìn)行干法刻蝕或是濕法腐蝕后,一般都是需要及時(shí)的去除清洗,而一些高溫或者其他操作往往會(huì)導(dǎo)致光刻膠碳化難以去除。
    的頭像 發(fā)表于 11-11 17:06 ?2082次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>清洗去除方法

    一文解讀光刻膠的原理、應(yīng)用及市場前景展望

    光刻技術(shù)是現(xiàn)代微電子和納米技術(shù)的研發(fā)中的關(guān)鍵一環(huán),而光刻膠,又是光刻技術(shù)中的關(guān)鍵組成部分。隨著技術(shù)的發(fā)展,對微小、精密的結(jié)構(gòu)的需求日益增強(qiáng),光刻膠的需求也水漲船高,在微電子制造和納米技
    的頭像 發(fā)表于 11-11 10:08 ?3463次閱讀
    一文解讀<b class='flag-5'>光刻膠</b>的原理、應(yīng)用及市場前景展望