導(dǎo)電膜是什么東西

導(dǎo)電膜是具有導(dǎo)電功能的薄膜。 導(dǎo)電薄膜的荷電載流子在輸運(yùn)過(guò)程中受到表面和界面的散射，當(dāng)薄膜的厚度可與電子的自由程相比擬時(shí)，在表面和界面的影響將變得顯著，這個(gè)現(xiàn)象稱為薄膜的尺寸效應(yīng)。它等效于載流子的自由程減小，因此與同樣材料的塊體相比，薄膜的電導(dǎo)率較小。

導(dǎo)電膜有什么用

導(dǎo)電薄膜的荷電載流子在輸運(yùn)過(guò)程中受到表面和界面的散射，當(dāng)薄膜的厚度可與電子的自由程相比擬時(shí)，在表面和界面的影響將變得顯著，這個(gè)現(xiàn)象稱為薄膜的尺寸效應(yīng)。它等效于載流子的自由程減小，因此與同樣材料的塊體相比，薄膜的電導(dǎo)率較小。由于制備技術(shù)欠完善，通常薄膜中的缺陷濃度比較高，主要缺陷為雜質(zhì)、空位、填隙原子、位錯(cuò)、晶界，以及表面和界面的吸附和偏析等。

導(dǎo)電膜發(fā)展現(xiàn)狀

最近幾年來(lái)國(guó)內(nèi)外的研究者分別在低溫制備的設(shè)備、工藝、薄膜的表面改性、多層膜系的設(shè)計(jì)和制備工藝方面進(jìn)行了深入的研究。例如，Wu Wen-Fa等利用R.F磁控濺射工藝在不加熱的聚碳酸酯（PC）襯底上制備了厚度為250mm，電阻率為6× ~2（Ω·cm），透過(guò)率為74%~90%；Park Sung Kyu等利用R.F磁控濺射工藝在低溫聚合物PES上制備了110nmITO，方塊電阻是20O/□，透過(guò)率80%，但是表面的粗糙度較大；法國(guó)的David等，利用In-Sn合金靶在100℃下沉積在聚合物上的ITO薄膜透過(guò)率為85%，電阻率為~0.003Ω·cm，表面粗糙度為15-50，美國(guó)的Daeil.KIM用直接金屬離子束沉積（DMIBD）方法在70℃的條件下制備的ITO薄膜最高透過(guò)率為85%，最低電阻率為4×Ω·cm，表面質(zhì)量比較高；此外還有一些研究人員利用脈沖激光沉積（PLD），電子束熱蒸發(fā)和金屬離子輔助濺射等方法在低溫甚至在室溫的條件下進(jìn)行高質(zhì)量塑基的薄膜制備。

國(guó)內(nèi)的賈永新在150℃基板條件下制備出了透過(guò)率為80%左右ITO薄膜，但沒(méi)有見(jiàn)電阻和表面特性的報(bào)道；近年來(lái)李育峰等利用微波等離子體輔助方法在120℃的基片上沉積的薄膜透過(guò)率大于85%，但方塊電阻大于100O/□，表面特性沒(méi)有報(bào)道；馬瑾等在塑料襯底上在80℃-100℃的條件下制備出了透過(guò)率大于84%，電阻率~0.001量級(jí)的薄膜。

綜上所述，國(guó)內(nèi)在低溫尤其常溫下制備ITO薄膜方面研究還不夠充分、不夠全面；并且研究制備方法也比較單一，與國(guó)外有比較大的差距。近年來(lái)國(guó)外尤其日本和韓國(guó)分別在低溫沉積技術(shù)、薄膜生長(zhǎng)機(jī)理和薄膜表面改性方面進(jìn)行了深入的研究，在保證不對(duì)薄膜襯底產(chǎn)生破壞的情況下，在低溫甚至室溫的條件下制備出了薄膜電阻率低于5×Ω·cm，透過(guò)率大于85%，表面的粗糙度小于2nm的ITO薄膜。